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Photoresist
光刻膠
我們致力于印制電路板、面板顯示、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)分行業(yè)光學(xué)圖形轉(zhuǎn)移材料的研發(fā)。在特種材料領(lǐng)域持續(xù)開發(fā)市場所需的新產(chǎn)品及應(yīng)用解決方案，為我們的市場及客戶注入生機(jī)。
半導(dǎo)體光刻膠
用于半導(dǎo)體材料光刻制造的感光塑料樹脂溶液(“光刻膠”)。這種產(chǎn)品由聚合光敏劑、非水溶劑和各種其他化學(xué)品組成。光刻膠用于覆蓋在沉積了金屬氧化物的硅片上，光刻工藝歷經(jīng)硅片表面脫水烘烤、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘、曝光、曝光后烘烤、顯影、堅(jiān)膜烘烤、顯影檢查等工序，該硅片最終將被制造成半導(dǎo)體材料。
LED光刻膠
g line光刻膠
I line 光刻膠
其他光刻膠
LED光刻膠
盡請后續(xù)關(guān)注
g line光刻膠
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I line 光刻膠
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其他光刻膠
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